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出自维基百科,自由个百科全书
半导体器件制造
10
µm
– 1971年
6
µm
– 1974年
3
µm
– 1977年
1.5
µm
– 1982年
1
µm
– 1985年
800
nm
– 1989年
600
nm
– 1994年
350
nm
– 1995年
250
nm
– 1997年
180
nm
– 1999年
130
nm
– 2001年
90
nm
– 2004年
65
nm
– 2006年
45
nm
– 2008年
32
nm
– 2010年
22
nm
– 2012年
14
nm
– 2014年
10
nm
– 2017年
7
nm
– 2018年
5
nm
– 约
2020年
望
论
32
纳米
制程
是
半导体
制造
制程
个一个水平。自2010年开始,
英特尔
搭AMD开始制造32纳米个芯片产品。
[
1
]
32纳米个后继制程是22纳米。
参考资料
[
编辑
]
↑
IEEE Spectrum: The High-k Solution
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