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半导体器件制造
10 µm
– 1971年
6 µm
– 1974年
3 µm
– 1977年
1.5 µm
– 1982年
1 µm
– 1985年
800 nm
– 1989年
600 nm
– 1994年
350 nm
– 1995年
250 nm
– 1997年
180 nm
– 1999年
130 nm
– 2001年
90 nm
– 2004年
65 nm
– 2006年
45 nm
– 2008年
32 nm
– 2010年
22 nm
– 2012年
14 nm
– 2014年
10 nm
– 2017年
7 nm
– 2018年
5 nm
– 约
2020年
望
论
1 µm制程
是
半导体制造
制程个一个水平,大约拉1985年至1986年左右达成。箇个是由当时个领先半导体公司如英特尔搭IBM所完成。箇是第一个以CMOS为主个制程。
开关有限宽度模式