化学气相沉积

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化学气相沉积(英语:chemical vapor deposition,简称CVD)是一种用来产生纯度高、性能好个固态材料个化学技术。半导体产业使用此技术来成长薄膜。典型个CVD工艺是拿晶圆(基底)暴露拉一种或多种弗同个前趋物下,拉基底表面发生化学反应或/及化学分解来产生欲沉积个薄膜。