光刻

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光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中个一个重要步骤,该步骤利用曝光搭显影拉光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺拿光掩模上个图形转移到所在衬底上。