光刻
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光刻
(英语:photolithography)是
半导体
器件制造工艺中个一个重要步骤,该步骤利用曝光搭显影拉
光刻胶
层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺拿光掩模上个图形转移到所在衬底上。
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