光刻胶

光刻胶（英语：photoresist），也叫作光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，渠个溶解度发生变化个耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中个关键材料，主要应用于集成电路搭半导体分立器件个细微图形加工。