光刻胶

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光刻胶(英语:photoresist),也叫作光阻或光阻剂,是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射,渠个溶解度发生变化个耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中个关键材料,主要应用于集成电路搭半导体分立器件个细微图形加工。