物理气相沉积

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物理气相沉积(英语:Physical vapor deposition,PVD)是一种工业制造上个工艺,是主要利用物理过程来沉积薄膜个技术,即真空镀膜(蒸镀),多用拉切削工具搭各种模具个表面处理,搭子半导体装置个制作工艺上。