光刻机

光刻机（英语：Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路个关键设备。可以分为两种，分别是模板搭图样大小一致个contact aligner，曝光时模板紧贴芯片；搭子利用类似投影机原理个stepper，获得比模板更小个曝光图样。