光刻机

吴语维基百科,自由个百科全书
跳到导航 跳到搜索

光刻机(英语:Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路个关键设备。可以分为两种,分别是模板搭图样大小一致个contact aligner,曝光时模板紧贴芯片;搭子利用类似投影机原理个stepper,获得比模板更小个曝光图样。